丙烯酸酯单体

贺利氏电子化学材料公司开发并放大了一系列带有立体受阻基团的单体： 从用于新关键层开发的超纯级到与高端存储和逻辑芯片相关的光敏材料，如 PR、BARC 和硬掩膜应用，其中成本和批量供应是重要因素。

单体是半导体行业的重要产品，用于制造光刻胶解决方案的定制聚合物。贺利氏在生产基于聚丙烯酸酯的关键层光刻胶方面有着悠久的历史。我们与客户共同开发并扩大了各种带有立体阻碍基团的单体。

从用于关键层开发的超高纯度等级，到包装和厚膜相关的光刻胶应用，我们提供全系列的产品。我们始终关注成本和批量供应。我们与客户的关系异常密切，始终了解他们的发展和规模需求。

通过我们的定制单体，客户甚至可以保留其独家配方的知识产权。