热酸

随着对光刻胶厚度的要求越来越高,越来越多的配方都含有热酸,以便在后烘烤过程中进行最终固化。

贺利氏可提供一套不含 IP 的产品,具有不同的酸释放温度。在应用中,半导体级纯度和有效成本是不可缺少的。

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Name
Technology
Product Type
Description
TA-101Multi-layer photo-lithographic applicationThermal Acid GeneratorsWhite powder 4.5% (w/w) in PGMEA m.p. 101–102°C
TA-102Multi-layer photo-lithographic applicationThermal Acid GeneratorsWhite powder 2.5% (w/w) in PGMEA m.p. 126–127°C
TA-103Multi-layer photo-lithographic applicationThermal Acid GeneratorsWhite powder 5% (w/w) in PGMEA m.p. 101–102°C